Optomechatronics Symposium 2023 bezoeken? Tickets, kosten en informatie

Het wordt de vijfde editie van het DSPE-initiatief dat in 2013 begon als het DSPE Optics and Optomechatronics Symposium in Eindhoven (NL).

Eerdere edities vonden plaats in Delft (NL) in 2015, Aken (Duitsland) in 2017 en Eindhoven in 2019. Dit symposium wordt georganiseerd door DSPE. Het is een goed moment om te netwerken en technische collega's te ontmoeten. Partners van het symposium zijn het Duitse fotonicacluster Optence en Mikrocentrum.

Meld je hier aan.

Doelgroep:

Ingenieurs en architecten sterk betrokken bij ontwerp en bouw van optische hardware.

Domein:

Innovatie, de nieuwste ontwikkelingen in optomechatronica zullen van praktisch nut zijn voor ingenieurs en ontwerpers. Ontwerpproces van fysica tot praktische oplossing/product.

Kosten:

Investering €195,00 excl BTW. Leden van DSPE, Mikrocentrum en Optence €175,00 excl btw, PHD €75 excl btw.

Plaats:

Mikrocentrum, De Run 1115, Veldhoven.

Organisaties worden uitgenodigd om te exposeren.

Beursstand tijdens symposium, ruimte 8m2, elektra en statafel. Op deze website tonen wij uw bedrijfslogo met een URL-link.

Investering: € 450,00 excl BTW.

€ 50 Korting als u lid bent van Optence, Mikrocentrum of DSPE.

Standbemanning moet zich registreren. Kosten zijn €195 of €175 per persoon.

Tentoonstellingsinformatie: Locatie Mikrocentrum, De Run 1115, Veldhoven

Contactgegevens

Contactpersoon: Julie van Stiphout, T +31(0)654308703, M info@dspe.nl

Programma 30 maart 2023

Voorzitter: Frank Schuurmans, Vice President Research ASML

09:10 – 9:30 Welkom door de voorzitter,

Frank Schuurmans Vice-president Onderzoek ASML

09:30 – 10:00 Opening door Zeiss.

EUV High-NA Lithography – Optomechatronische aspecten voor zeer nauwkeurige metrologie.

ZEISS AG (details van de sprekers volgen binnenkort

10:00 – 10:30 Dr.Ir. Stefan Kuiper,

Mechatronisch Systeem Architect TNO

10:30 – 11:00 Prof.dr. Wim Coene,

Deeltijdhoogleraar bij Faculteit TNW

(Technische Natuurwetenschappen) van de Technische Universiteit Delft en Director of Research bij ASM

10:30 – 11:00 Pauze / bezoek aan de tentoonstelling

11:30 – 12:00 Andrew Boyd,

Optical Design Capabillity, hoofd Exalitas Technologies bij Cioptiq St Asaph

12:00 – 12:30 Christian Buß,

Hoofd R&D Alignment Turning Systems TRIOPTICS GmbH

12:30 – 14:00 Lunch / bezoek aan de tentoonstelling

14:30 – 15:00 Ir. Sander Hermanussen,

Promovendus Besturingssystemen Technologie

groep Faculteit Werktuigbouwkunde Technische Universiteit Eindhoven

15:00 – 15:30 Cor Ottens,

Systeemarchitect ASML

15:30 – 16:00 Pauze / bezoek aan de tentoonstelling

16:00 – 16:30 Michiel van Beek,

Sr. groepsleider Physics & Optics Sioux Technologies

16:30 – 17:00 Tobias Müller,

Technisch directeur en mede-oprichter AIXEMTEC Gmbh

17:00 – 17:10 Sluiting van de dag door voorzitter Frank Schuurmans

17:10 – 18:00 Borrel/hapjes bezoek aan de tentoonstelling

18:00 Einde van het programma

Programmacommissie:

Stefan Bäumer – Principal Scientist & Sr. Optisch systeemontwerper TNO

Paul Urbach – Wetenschappelijk Directeur Dutch Optics Centre / Hoogleraar Optica TU Delft

Hans Vermeulen – Sr. Hoofdarchitect EUV Optics System ASML / Deeltijdhoogleraar TU/e

Cor Ottens – Systeemarchitect Opto-Mechanica, Precisiemechanica ASML / president Special Interest Group Optics DSPE / Bestuurslid DSPE

Pieter Kappelhof – Technology Manager Hittech Group / Vice-President DSPE / Docent Hybride Opto-mechatronica TU Eindhoven

Uitgenodigde sprekers:

dr.ir. Stefan Kuiper, Mechatronisch Systeem Architect TNO

Deformable Mirror Development bij TNO

TNO ontwikkelt Deformable Mirror (DM)-technologie, gericht op aberratiecorrectie in hoogwaardige Adaptive Optics-systemen op het gebied van astronomie, ruimtetelescopen en lasercommunicatie. Het hart van deze vervormbare spiegeltechnologie is een unieke actuatortechnologie gebaseerd op het hybride-variabele-reluctantie-principe. De belangrijkste voordelen van deze actuatortechnologie zijn de inherente hoge betrouwbaarheid, lineariteit (>99%) en hoge efficiëntie in termen van kracht per volume en eenheidsvermogen. Op basis van deze actuatortechnologie heeft TNO een aantal DM's gebouwd en getest die in verschillende toepassingen zijn gebruikt, waaronder grond-naar-grond lasercommunicatie. Bovendien is op basis van deze actuatortechnologie een zeer compacte Fine Steering Mirror ontwikkeld, gericht op gebruik in lasercommunicatiesystemen aan boord van satellieten. De volgende stap op de roadmap voor ontwikkeling is de realisatie van grote Adaptive Secondary Mirrors (ASM) die tot enkele duizenden van actuatoren en optisch aangedreven (concave/convexe) spiegelschalen tot Ø1,4m. Deze ASM's zijn bedoeld om de beeldvormingsprestaties van 's werelds grootste astronomische telescopen te verbeteren. In deze talk zal Stefan Kuiper van TNO verschillende aspecten van deze DM-technologie toelichten, waaronder de actuatortechnologie, recente experimentele resultaten laten zien en een vooruitblik geven op de toekomstige ontwikkelingsplannen met betrekking tot deze DM-technologie. https://www.tno.nl/nl/aandachtsgebieden/industrie/roadmaps/space-scientific-instrumentation/ground-based-astronomy/

prof. dr. Wim Coene, deeltijdhoogleraar faculteit TNW (Technische Natuurwetenschappen) van de Technische Universiteit Delft en directeur onderzoek bij TNW

Beeldvorming van nanostructuren zonder lenzen

Eind 2018 is met 5 academische groepen in Nederland een NWO-TTW Perspectiefprogramma gestart over Lensless Imaging of 3D Nanostructures with Soft X-Rays (LINX). Binnen dit LINX-programma is aan de TU Delft een EUV-bundellijn ontworpen en gebouwd, waarvoor het algoritmische concept van lensloze beeldvorming, ook wel ptychografie genoemd, is ontwikkeld om nanostructuren in toekomstige generatie chips van een aantal van diffractiepatronen in het verre veld. De tafelmodel EUV-bundellijn is 5 m lang en is opgebouwd rond een bron met hoge harmonische generatie (HHG) waar de harmonischen in het EUV-bereik (10-20 nm) worden gegenereerd door interactie van een 100 W krachtige IR-laser met een edelgas. De EUV-bundel plant zich verder voort naar de beeldkamer, waar het coherente quasi-monochromatische EUV-licht door een ellipsvormige spiegel op het monster wordt gefocusseerd. Het EUV-licht wordt verstrooid door de nanostructuren aan het oppervlak van het monster en wordt gereflecteerd naar een camera, waar een diffractiepatroon in het verre veld wordt vastgelegd. Er wordt een dataset gegenereerd die een groot aantal van deze diffractiepatronen omvat voor meerdere gedeeltelijk overlappende posities van de gefocusseerde coherente sonde op het monster dat is gemonteerd op een goed gecontroleerd monsterplatform. Zo'n dataset biedt de nodige redundantie om de verkregen diffractiepatronen door middel van zeer specifieke algoritmen om te zetten in een computergegenereerd beeld van het monster. In de presentatie zullen de vele uitdagingen verder worden benadrukt die zijn en worden aangepakt om de beeldresolutie van de EUV-bundellijn te verbeteren.

Christian Buß, hoofd R&D Alignment Turning Systems TRIOPTICS GmbH

Alignment draaien voor optomechanische systemen met hoge precisie.

Uitlijndraaien heeft bewezen een zeer veelzijdige technologie te zijn voor de efficiënte en nauwkeurige montage van optomechanische systemen. Van kleine lenzen in in massa geproduceerde microscoopobjectieven tot grote lenzen voor halfgeleiderapparatuur, de use cases zijn zeer wijdverbreid. Tegenwoordig worden de belangrijkste technische uitdagingen voor het uitlijnen van objectieflenzen met de hoogste precisie opgelegd door asferische lenzen, lenzen met een grote diameter en enkele micron-toleranties. Ze vereisen vaak aanvullende voor- en nabewerkingen om efficiënt gebruik te kunnen maken van de uitlijndraaitechnologie in middelgrote tot grootschalige productie. De slimme meettechnieken en draaitechniek geïntegreerd in de Alignment Turning Machine van TRIOPTICS bieden een oplossing om deze efficiëntieverhoging te realiseren. De lezing zal inzicht geven in de voordelen en beperkingen van het uitlijndraaiproces en zal de traditionele op een klauwplaat gebaseerde methode van uitlijndraaien vergelijken met modernere cnc-gebaseerde methoden van uitlijndraaien. De lezing bespreekt specifieke resultaten en geeft suggesties voor individuele toepassingen.

Andreas Biermanns-Föth, hoofd bedrijfsafdeling Photon Instrumentation, EUV/XUV Systems RI Research Instruments GmbH

Metrologietools en oplossingen voor actinische EUV-pellicle-kwalificatie.

EUV-lithografie wordt gebruikt voor de productie van chipvolumes. EUV-pellicles en dynamische gassluisvensters in de scanner zijn hoekstenen voor de technologie.

Uitgenodigde sprekers:

dr.ir. Stefan Kuiper, Mechatronisch Systeem Architect TNO

Deformable Mirror Development bij TNO

TNO ontwikkelt Deformable Mirror (DM)-technologie, gericht op aberratiecorrectie in hoogwaardige Adaptive Optics-systemen op het gebied van astronomie, ruimtetelescopen en lasercommunicatie. Het hart van deze vervormbare spiegeltechnologie is een unieke actuatortechnologie gebaseerd op het hybride-variabele-reluctantie-principe. De belangrijkste voordelen van deze actuatortechnologie zijn de inherente hoge betrouwbaarheid, lineariteit (>99%) en hoge efficiëntie in termen van kracht per volume en eenheidsvermogen. Op basis van deze actuatortechnologie heeft TNO een aantal DM's gebouwd en getest die in verschillende toepassingen zijn gebruikt, waaronder grond-naar-grond lasercommunicatie. Bovendien is op basis van deze actuatortechnologie een zeer compacte Fine Steering Mirror ontwikkeld, gericht op gebruik in lasercommunicatiesystemen aan boord van satellieten. De volgende stap op de roadmap voor ontwikkeling is de realisatie van grote Adaptive Secondary Mirrors (ASM) die tot enkele duizenden van actuatoren en optisch aangedreven (concave/convexe) spiegelschalen tot Ø1,4m. Deze ASM's zijn bedoeld om de beeldvormingsprestaties van 's werelds grootste astronomische telescopen te verbeteren. In deze talk zal Stefan Kuiper van TNO verschillende aspecten van deze DM-technologie toelichten, waaronder de actuatortechnologie, recente experimentele resultaten laten zien en een vooruitblik geven op de toekomstige ontwikkelingsplannen met betrekking tot deze DM-technologie. https://www.tno.nl/nl/aandachtsgebieden/industrie/roadmaps/space-scientific-instrumentation/ground-based-astronomy/

prof. dr. Wim Coene, deeltijdhoogleraar faculteit TNW (Technische Natuurwetenschappen) van de Technische Universiteit Delft en directeur onderzoek bij TNW

Beeldvorming van nanostructuren zonder lenzen

Eind 2018 is met 5 academische groepen in Nederland een NWO-TTW Perspectiefprogramma gestart over Lensless Imaging of 3D Nanostructures with Soft X-Rays (LINX). Binnen dit LINX-programma is aan de TU Delft een EUV-bundellijn ontworpen en gebouwd, waarvoor het algoritmische concept van lensloze beeldvorming, ook wel ptychografie genoemd, is ontwikkeld om nanostructuren in toekomstige generatie chips van een aantal van diffractiepatronen in het verre veld. De tafelmodel EUV-bundellijn is 5 m lang en is opgebouwd rond een bron met hoge harmonische generatie (HHG) waar de harmonischen in het EUV-bereik (10-20 nm) worden gegenereerd door interactie van een 100 W krachtige IR-laser met een edelgas. De EUV-bundel plant zich verder voort naar de beeldkamer, waar het coherente quasi-monochromatische EUV-licht door een ellipsvormige spiegel op het monster wordt gefocusseerd. Het EUV-licht wordt verstrooid door de nanostructuren aan het oppervlak van het monster en wordt gereflecteerd naar een camera, waar een diffractiepatroon in het verre veld wordt vastgelegd. Er wordt een dataset gegenereerd die een groot aantal van deze diffractiepatronen omvat voor meerdere gedeeltelijk overlappende posities van de gefocusseerde coherente sonde op het monster dat is gemonteerd op een goed gecontroleerd monsterplatform. Zo'n dataset biedt de nodige redundantie om de verkregen diffractiepatronen door middel van zeer specifieke algoritmen om te zetten in een computergegenereerd beeld van het monster. In de presentatie zullen de vele uitdagingen verder worden benadrukt die zijn en worden aangepakt om de beeldresolutie van de EUV-bundellijn te verbeteren.

Christian Buß, hoofd R&D Alignment Turning Systems TRIOPTICS GmbH

Alignment draaien voor optomechanische systemen met hoge precisie.

Uitlijndraaien heeft bewezen een zeer veelzijdige technologie te zijn voor de efficiënte en nauwkeurige montage van optomechanische systemen. Van kleine lenzen in in massa geproduceerde microscoopobjectieven tot grote lenzen voor halfgeleiderapparatuur, de use cases zijn zeer wijdverbreid. Tegenwoordig worden de belangrijkste technische uitdagingen voor het uitlijnen van objectieflenzen met de hoogste precisie opgelegd door asferische lenzen, lenzen met een grote diameter en enkele micron-toleranties. Ze vereisen vaak aanvullende voor- en nabewerkingen om efficiënt gebruik te kunnen maken van de uitlijndraaitechnologie in middelgrote tot grootschalige productie. De slimme meettechnieken en draaitechniek geïntegreerd in de Alignment Turning Machine van TRIOPTICS bieden een oplossing om deze efficiëntieverhoging te realiseren. De lezing zal inzicht geven in de voordelen en beperkingen van het uitlijndraaiproces en zal de traditionele op een klauwplaat gebaseerde methode van uitlijndraaien vergelijken met modernere cnc-gebaseerde methoden van uitlijndraaien. De lezing bespreekt specifieke resultaten en geeft suggesties voor individuele toepassingen.

Andreas Biermanns-Föth, hoofd bedrijfsafdeling Photon Instrumentation, EUV/XUV Systems RI Research Instruments GmbH

Metrologietools en oplossingen voor actinische EUV-pellicle-kwalificatie.

EUV-lithografie wordt gebruikt voor de productie van chipvolumes. EUV-pellicles en dynamische gassluisvensters in de scanner zijn hoekstenen voor de technologie